中国科学院微电子研究所引进铄瑞科技SDC-350H接触角测量仪，助力集成电路表界面科学研究

近日，中国科学院微电子研究所（以下简称“微电子所”）采购的广东铄瑞科技有限公司（以下简称“铄瑞科技”）自动倾斜接触角测量仪SDC-350H顺利完成安装调试，正式投入使用。这一高精度表面性能检测设备的引进，将为微电子所在集成电路制造工艺、晶圆表面分析、新材料研发等领域的科研工作提供强有力的技术支撑-
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强强联手，赋能微电子前沿研究

作为我国微电子科学技术与集成电路领域的重要研发机构，微电子所始终聚焦国家重大战略需求，致力于实现集成电路领域科技自立自强-

。在晶圆制造过程中，表面清洁度和润湿性能直接影响薄膜沉积、光刻胶涂布、刻蚀等关键工艺的质量，进而决定产品良率-

。精准的表界面性能评估已成为工艺优化和产品研发不可或缺的关键环节。

经过严谨的市场调研与技术比对，微电子所最终选择引进铄瑞科技自主研发的SDC-350H自动倾斜接触角测量仪，为实验室表面性能检测能力注入新动能。

SDC-350H：精准测量，定义表界面分析新标准

广东铄瑞科技是国内专业的接触角测量设备生产商，其SDC-350H型号设备在业内享有极高声誉-

。该设备采用光学成像原理，通过图像轮廓分析方式，能够精准测量样品表面的接触角、润湿性能、表界面张力、表面能、滚动角、前进后退角及滞后性等关键数据-。

针对微电子所聚焦的半导体与集成电路研究方向，SDC-350H具备以下核心优势：

全自动精准控制：设备配备整体倾斜平台，倾斜范围高达±90°，精度可达0.01°，不仅能够测量静态接触角，更能精准测试滚动角、前进角与后退角。这对于评估晶圆表面的自清洁性、疏水性能及清洗工艺效果至关重要-
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高精度光学成像系统：采用SONY原装进口高速工业级芯片和德国工业级进口远心镜头，最大图像可达5000×4000像素，最高帧率200FPS，确保液滴轮廓清晰捕捉，测量结果真实可靠-。

智能化分析软件：内置多种国际领先的拟合方法（如椭圆拟合法、微分圆法），可实现一键式全自动拟合，避免人为操作带来的误差。软件支持动态接触角拟合、表面自由能计算、表界面张力测量等多种功能，为材料表面性能分析提供客观精准的数据支持-。

适应复杂样品：无论是超亲水还是超疏水表面，SDC-350H均能清晰捕捉液滴形态，满足6寸以内晶圆样品的测试需求，确保测量结果的真实性与稳定性-。

助力集成电路工艺优化与良率提升

在半导体制造领域，接触角测量技术发挥着不可替代的作用。晶圆表面的有机污染物残留会改变表面能分布，导致接触角测量数据波动，进而影响薄膜沉积均匀性和光刻胶涂布质量-。

SDC-350H接触角测量仪的引入，将为微电子所科研团队提供以下关键支撑：

晶圆清洁度评估：通过精准测量去离子水在晶圆表面的接触角，快速判断表面清洁状态，优化清洗工艺参数，降低缺陷密度-。

薄膜工艺优化：精确评估不同薄膜材料的表面能分布，为化学气相沉积、原子层沉积等工艺提供定量化表征手段，提升薄膜均匀性与附着力-。

光刻工艺改进：通过接触角数据分析光刻胶在晶圆表面的铺展行为，优化旋涂工艺参数，提高光刻胶均匀性和分辨率-。

新材料研发：为新型低介电常数材料、超低k介质、先进封装材料等的表面润湿性能研究提供精准检测手段，加速新材料研发进程。

调试圆满完成，开启科研新篇章

2026年3月26日，铄瑞科技工程师在微电子所实验室内顺利完成SDC-350H接触角测量仪的安装调试工作。现场对设备的自动进液系统、整体倾斜平台、光学成像模块及分析软件进行了全面测试，各项技术指标均达到预期要求-。

“工欲善其事，必先利其器。”SDC-350H接触角测量仪的引进，不仅丰富了微电子所的表界面分析手段，更为集成电路制造工艺优化与新材料研发提供了精准的量化工具。未来，微电子所将持续依托这一先进设备，深化表界面科学研究，为我国集成电路产业的技术突破与自主创新贡献更多力量。

关于广东铄瑞科技有限公司
广东铄瑞科技有限公司是一家专注于表面性能检测仪器研发、生产和销售的高新技术企业，致力于为高校院所、半导体制造、新材料研发等领域提供高精度接触角测量仪、表界面张力仪等专业检测设备。

关于中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所是我国微电子科学技术与集成电路领域的重要研发机构，具备从原理器件、集成工艺、制造装备到核心芯片开发的全链条科技创新能力，是我国微电子技术创新的引领者和产业发展的推动者-2。